Abstract:
Разработана простая и эффективная процедура обработки распределений коэффициента отражения электромагнитного излучения от планарных структур, которая позволяет восстановить пространственное распределение толщины пленочного покрытия на кремниевой подложке. A simple and effective procedure for processing the distributions of coefficient of reflection of electromagnetic radiation from planar structures has been developed, which allows one to reconstruct the spatial distribution of the thickness of the film coating on a silicon substrate.
