К определению неоднородности толщины слоя на кремниевой подложке методами оптической рефлектометрии

Показать сокращенную информацию

dc.contributor.author Примак, И. У.
dc.contributor.author Хомченко, А. В.
dc.contributor.author Primak, I. U.
dc.contributor.author Khomchenko, A. V.
dc.date.accessioned 2021-11-18T10:34:11Z
dc.date.available 2021-11-18T10:34:11Z
dc.date.issued 2021
dc.identifier.citation Примак, И. У. К определению неоднородности толщины слоя на кремниевой подложке методами оптической рефлектометрии / И. У. Примак, А. В. Хомченко // Актуальные проблемы науки и техники : материалы I Международной научно-технической конференции, Сарапул, 20-22 мая 2021 г. – Ижевск : Изд-во УИР ИжГТУ имени М. Т. Калашникова, 2021. – С. 66-70. ru_RU
dc.identifier.uri http://e.biblio.bru.by/handle/1212121212/17655
dc.description.abstract Разработана простая и эффективная процедура обработки распределений коэффициента отражения электромагнитного излучения от планарных структур, которая позволяет восстановить пространственное распределение толщины пленочного покрытия на кремниевой подложке. A simple and effective procedure for processing the distributions of coefficient of reflection of electromagnetic radiation from planar structures has been developed, which allows one to reconstruct the spatial distribution of the thickness of the film coating on a silicon substrate. ru_RU
dc.language.iso ru ru_RU
dc.subject Публикации кафедры "Физика"
dc.subject Публикации кафедры "Электропривод и автоматизация промышленных установок"
dc.subject Публикации кафедры "Программное обеспечение информационных технологий"
dc.subject оптическая рефлектометрия ru_RU
dc.subject распределение толщины слоя ru_RU
dc.subject распределение коэффициента отражения ru_RU
dc.subject погрешности восстановления параметров слоя ru_RU
dc.subject optical reflectometry ru_RU
dc.subject distribution of layer thickness ru_RU
dc.subject distribution of reflection coefficient ru_RU
dc.subject reconstruction errors of the layer parameters ru_RU
dc.subject Публикации кафедры "Высшая математика" ru_RU
dc.title К определению неоднородности толщины слоя на кремниевой подложке методами оптической рефлектометрии ru_RU
dc.title.alternative To determination of the thickness heterogeneity of the layer on a silicon substrate by optical reflectometry techniques ru_RU
dc.type Article ru_RU
dc.identifier.udc 535.31


Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию