dc.contributor.author |
Обидина, О. В. |
|
dc.contributor.author |
Терешко, И. В. |
|
dc.contributor.author |
Елькин, И. Е. |
|
dc.contributor.author |
Редько, В. П. |
|
dc.contributor.author |
Budak, S. |
|
dc.contributor.author |
Muntele, С. |
|
dc.contributor.author |
lla, D. |
|
dc.contributor.author |
Abidzina, V. |
|
dc.contributor.author |
Tereshko, I. |
|
dc.contributor.author |
Elkin, I. |
|
dc.contributor.author |
Red'ko, V. P. |
|
dc.date.accessioned |
2023-11-30T12:57:26Z |
|
dc.date.available |
2023-11-30T12:57:26Z |
|
dc.date.issued |
2007 |
|
dc.identifier.citation |
Образование наночастиц золота на поверхности стекла при низкоэнергетическом ионном облучении / О. В. Обидина [и др.] // Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of radiation witli solids: материалы 7-й Междунар. конф., Минск, 26-28 сент. 2007 г. / редкол. В. М. Анищик (отв. ред.) [и др.]. — Минск: Изд. центр БГУ, 2007. — С. 259-261. |
ru_RU |
dc.identifier.uri |
http://e.biblio.bru.by/handle/1212121212/38981 |
|
dc.description.abstract |
в работе изучалась возможность образования наночастиц золота на поверхности кремне-содержащего слоя с небольшим количеством золота под действием низкознергетического ионного облучения в плазме тлеющего разряда Тонкие пленки Si02+Au на SiO2 подложке были получены с помощью осаждения ассистируемого ионным облучением (IBAD). Толщина пленок, а также процентное содержание золота измерялось с помощью спектрометрии Резерфордовского обратного рассеяния (POP). Образцы подвергались воздействию низкознергетических ионов остаточных газов воздуха в плазме тлеющего разряда. Энергия ионов зависела от напряжения в плазмогенераторе и не превышала 1,2 кэВ. Образование наночастиц золота после низкоэнергетического ионного облучения исследовалось с помощью спектрометрии оптического поглощения. Электромагнитная теория Ми, а также теория эффективной среды была использована для изучения среднего размера частиц. The effects of the low energy ions to induce the nucleation of nanoscale crystals on the surface of a silica nano-layer containing low concentrations of Au were used in this work. Si02+Au films on SiO2 substrates were produced by IBAD. The thicknesses of the films and Au concentration were measured by Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS). Samples were exposed to low-energy ion irradiation in glow-discharge plasma of residual gases. The ion energy depends on the voltage in the plasma generator and did not exceed 3 keV The temperature in the chamber was controlled during the irradiation process and did not exceed 323 K.
The formation of Au nanoclusters after low-energy ion irradiation was studied by Optical Absorption Spectrometry (OAS). Electromagnetic Mie theory and effective media theory were used to study average size of particles. |
ru_RU |
dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
dc.publisher |
Изд. центр БГУ |
ru_RU |
dc.subject |
Публикации кафедры "Электропривод и автоматизация промышленных установок" |
ru_RU |
dc.title |
Образование наночастиц золота на поверхности стекла при низкоэнергетическом ионном облучении |
ru_RU |
dc.title.alternative |
Au nanoparticle formation on the SiO2 surface by low-energy ion irradiation |
ru_RU |
dc.type |
Article |
ru_RU |