Образование наночастиц золота на поверхности стекла при низкоэнергетическом ионном облучении

Показать сокращенную информацию

dc.contributor.author Обидина, О. В.
dc.contributor.author Терешко, И. В.
dc.contributor.author Елькин, И. Е.
dc.contributor.author Редько, В. П.
dc.contributor.author Budak, S.
dc.contributor.author Muntele, С.
dc.contributor.author lla, D.
dc.contributor.author Abidzina, V.
dc.contributor.author Tereshko, I.
dc.contributor.author Elkin, I.
dc.contributor.author Red'ko, V. P.
dc.date.accessioned 2023-11-30T12:57:26Z
dc.date.available 2023-11-30T12:57:26Z
dc.date.issued 2007
dc.identifier.citation Образование наночастиц золота на поверхности стекла при низкоэнергетическом ионном облучении / О. В. Обидина [и др.] // Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of radiation witli solids: материалы 7-й Междунар. конф., Минск, 26-28 сент. 2007 г. / редкол. В. М. Анищик (отв. ред.) [и др.]. — Минск: Изд. центр БГУ, 2007. — С. 259-261. ru_RU
dc.identifier.uri http://e.biblio.bru.by/handle/1212121212/38981
dc.description.abstract в работе изучалась возможность образования наночастиц золота на поверхности кремне-содержащего слоя с небольшим количеством золота под действием низкознергетического ионного облучения в плазме тлеющего разряда Тонкие пленки Si02+Au на SiO2 подложке были получены с помощью осаждения ассистируемого ионным облучением (IBAD). Толщина пленок, а также процентное содержание золота измерялось с помощью спектрометрии Резерфордовского обратного рассеяния (POP). Образцы подвергались воздействию низкознергетических ионов остаточных газов воздуха в плазме тлеющего разряда. Энергия ионов зависела от напряжения в плазмогенераторе и не превышала 1,2 кэВ. Образование наночастиц золота после низкоэнергетического ионного облучения исследовалось с помощью спектрометрии оптического поглощения. Электромагнитная теория Ми, а также теория эффективной среды была использована для изучения среднего размера частиц. The effects of the low energy ions to induce the nucleation of nanoscale crystals on the surface of a silica nano-layer containing low concentrations of Au were used in this work. Si02+Au films on SiO2 substrates were produced by IBAD. The thicknesses of the films and Au concentration were measured by Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS). Samples were exposed to low-energy ion irradiation in glow-discharge plasma of residual gases. The ion energy depends on the voltage in the plasma generator and did not exceed 3 keV The temperature in the chamber was controlled during the irradiation process and did not exceed 323 K. The formation of Au nanoclusters after low-energy ion irradiation was studied by Optical Absorption Spectrometry (OAS). Electromagnetic Mie theory and effective media theory were used to study average size of particles. ru_RU
dc.language.iso ru ru_RU
dc.publisher Изд. центр БГУ ru_RU
dc.subject Публикации кафедры "Электропривод и автоматизация промышленных установок" ru_RU
dc.title Образование наночастиц золота на поверхности стекла при низкоэнергетическом ионном облучении ru_RU
dc.title.alternative Au nanoparticle formation on the SiO2 surface by low-energy ion irradiation ru_RU
dc.type Article ru_RU


Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию