Рассмотрена возможность формирования высоковольтных частотных импульсов с возможностью регулирования тока в пределах от 50 до 150 кГц. Представлена схема формирования устройства, позволяющего получить более широкие возможности регулирования частоты. Представлены результаты, позволяющие получить
представление о влиянии частоты течения тока высоковольтного тлеющего разряда на глубину модифицированного слоя.
